IBM и Hitachi займутся метрологией для 32-нм техпроцесса

Корпорация IBM и компания Hitachi объявили на днях о создании нового альянса в полупроводниковой промышленности. В течение ближайших 2 лет компании займутся совместной разработкой технологий в области метрологии для 32-нм технологического процесса. Согласно официальному пресс-релизу, специалисты компании разработают "новые методы анализа структуры полупроводниковых элементов с целью улучшения контроля характеристик транзисторов".

Напомним, что корпорации IBM уже удалось собрать под флагом "Common Platform" восемь крупных представителей полупроводниковой промышленности: AMD, Chartered, Freescale, Infineon, Samsung, Sony, Toshiba and STMicroelectronics. Целью альянса является совместная разработка технологических процессов производства КМОП-микросхем следующих поколений, и в первую очередь, 32-нм проектных норм. Однако сотрудничество с Hitachi на данный момент ограничивается только вопросами метрологии и не предполагает расширения.

Работа над совместными решениями будет проходить на базе центра Thomas J. Watson в г. Йорк-Таун (США) и College of Nanoscale Science and Engineering в г. Олбани (США), принадлежащих корпорации IBM. В работе примут участие представители трех компаний – собственно Hitachi и IBM, а также специалисты компании Hitachi High-Technologies.